磁控 溅射 系统
凭借卓越的薄膜控制技术打造的溅射解决方案。为您介绍可确保精密工艺实现与稳定运行的多样化真空沉积设备。
连续式 溅射 设备
专为大面积基板的高速连续生产而设计的在线式溅射系统。通过无间断的线性(Linear)工艺流程，在大规模量产线上实现最高的生产效率与均匀的薄膜品质。
集群式 溅射 设备
用于半导体及 OLED 工艺等超精密多层膜形成的集群式溅射系统。以中央机器人为核心配置独立腔体，有效防止基板污染，并使复合工艺的灵活性实现最大化。
间歇式(单批次) 溅射 设备
针对多品种小批量生产及研发(R&D)的优化解决方案——分批式溅射系统。在单个工艺周期内可同时处理多个基板，具有出色的空间利用率及经济的运行成本。