集群式 溅射 设备
集群式溅射系统是一种可在单一真空环境下配置多重工艺的高灵活性研发(R&D)及中试(Pilot)系统。
- 适用于自动化生产线，开发以及研究现场。
- 提供高集成化的技术和机制。
Application
- 适用于多样的薄膜 (Metal, Oxide, TCO 等) 流程
- 适用于高集成半导体以及电子配件基板流程
- 适用于薄膜太阳电磁流程
Specification
| 构成 | Loading, Transfer, Pre-treatment, Deposition(PVD, CVD) |
|---|---|
| 制品转移 | 高真空自动 |
| Cathode | Planar or Round Magnetron cathode |
| Target | Metal, Oxide, TCO |