连续式 溅射 设备

在线式溅射系统采用全自动化连续工艺,在大规模量产中实现了高稼动率与均匀的薄膜品质。

Application

Specification

构成 Loading, Pre-treatment, Deposition, Buffer, Unloading
Tact time 3分钟以内
Cathode Planar or Cylindrical Magnetron cathode
Target Metal, Oxide, TCO